SiO2 薄膜厚度標準片
產品編號
M1C016001
規格 & 說明
薄膜量測分析儀用標準片,於同一片基板上整合三種不同的表面性質
Mirror (鏡面)/Reference (參考基板)/SiO2(二氧化矽)
1) SiO₂ 薄膜區:
鍍膜材質:二氧化矽 (SiO₂)
膜層厚度:~ 1000 nm
用途:適用於薄膜厚度量測與校正
2)裸矽晶圓區:
未鍍膜之標準矽基板
用途:作為基準面 (Baseline) 校正
3) 鋁反射鏡區:
鍍膜材質:鋁 (Al) + SiO₂ 保護層
用途:鏡面反射率校正與量測
應用類型
以標準 Si 基板製作,於同一片基板上整合三種不同的表面性質,以便進行多樣化光學量測與校正(三合一薄膜量測校正片)
用於校準與驗證薄膜量測系統的準確性。
也可根據您的需求厚度進行客製化製作。
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