鍍層膜厚標準品校正是否會影響XRF膜厚分析儀測試準確度


元素鍍層厚度測量儀或是桌上型XRF元素分析儀的膜厚功能,都可以測試金屬鍍膜層厚度,這兩種設備主要是以EDX 能量散射式螢光分析儀XRF的設計原理為主,用途多用於各種金屬保護電鍍的電子零件、印刷電路板、導線架、IC、五金零件、 LED, MLCC….
一般膜厚分析儀Thickness gauge為例:兩個軟體模式分別是一個是FP膜厚法、一個是檢量線法,所需要使用到的標準品建置的種類及數目也不太相同,故測試上也會因此而影響到準確度。


例如以銅鍍鎳鍍金-含基底共三層的Cu/Ni/Au金屬鍍膜

實驗測試:
我們使用EA 6000VX桌上型XRF設備進行樣品測試討論Ni鎳5.1mm/ Au金0.466mm
實驗室膜厚分析儀沒有建立標準品無法測試得到準確數據,當樣品越多層、厚度差異越大,需要更多數量膜厚標準品進行建置,才能測得準確厚度數據。
 

  Ni鎳mm Ni鎳
誤差 %
Au金
mm
Au金
誤差%
標準品 5.1   0.466  
沒建立標準品 4.1 19.61% 0.38 18.45%
FP法
一套三片
標準品
5.02 1.57% 0.45 3.43%




薄膜FP法(Fundamental Principle Method) : 最低需要一套以上金屬標準片(最簡單是三片;例如 1. Ni 5um 2. Au 0.25um 3.無限大銅底材料5000mm,校正一個組合即可,這種模式通常誤差可以在10%誤差內。

薄膜檢量線法(Calibration Curve Method): 此種方法需要多達9個以上標準品,完成校正10種組合,這種校正可以有效增加膜厚測試準確度,若有需要測試準確度到1~5%以內就建議要使用減量線法進行。




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